靶向纳米颗粒抗压强度试验机是一种用于测定靶向纳米颗粒在压力作用下的力学性能的专业设备。

靶向纳米颗粒抗压强度试验机工作原理通过施加垂直压力至颗粒破裂，记录破裂瞬间的临界压力值，直接反映靶向纳米颗粒的抗压强度，为药物载体设计提供关键数据‌。

‌靶向纳米颗粒抗压强度试验机技术特点：

‌高精度测量‌：采用电子传感器和精密控制系统，分辨率可达±0.5%以内，适用于微米级纳米颗粒测试‌。

‌自动化操作‌：集成数据采集软件，自动生成压力-变形曲线、统计大值/小值/平均值，并支持结果打印‌。

‌环境适应性‌：可调节试验速度（如静压接触样品前后的独立速度控制），适应不同温湿度条件下的测试需求‌。

靶向纳米颗粒抗压强度试验机技术参数：

1.  产品规格：   MX-0230

2． 精度等级：   0.5级

3． 额定负荷：   0.5N 1N 5N  10N  20N 50N(任选或多选）

4． 有效测力范围：0.1/100-100;

5． 试验力分辨率，负荷±500000码；内外不分档，且全程分辨率不变。

6. 位移分辨率：0.0001mm

7.  变形分辨率：0.0001mm

8． 有效试验宽度：120mm

9． 有效试验空间：300mm

10． 试验速度:：0.001~300mm/min(任意调)

11.  速度精度：示值的±0.5%以内；

12．位移测量精度：示值的±0.5%以内；

13．变形测量精度：示值的±0.5%以内；

14．应力控速率范围： 0.005%～6％FS/S

15．应力控速率精度： 速率＜0.05％FS/S时，为设定值的±1%以内；速率≥0.05％FS/S时，为设定值的±0.5%以内；

16．应变控速率范围： 0.002%～6％FS/S

17．应变控速率精度： 速率＜0.05％FS/S时，为设定值的±2%以内；速率≥0.05％FS/S时，为设定值的±0.5%以内；

18. 恒力/位移/变形测量范围：0.5％～100FS

19．恒力/位移/变形测量精度：设定值＜10％FS时, 为设定值的±1%以内； 设定值≥10％FS时, 为设定值的±0.1%以内；

20．试台升降装置：快/慢两种速度控制，可点动；

21．试台安全装置：电子限位保护

22．试台返回：手动可以高速度返回试验初始位置，自动可在试验结束后自动返回；

23．试验定时间自动停车,试验定变形自动停车,试验定负荷自动停车

24．超载保护：超过大负荷10%时自动保护；

25. 自动诊断功能，定时对测量系统、驱动系统进行过载、过压、过流、超负荷等检查，出现异常情况立即进行保护

26．电源功率： 200W    

27．主机重量： 40kg

28. 电源电压:  220V（单相）

29. 主机尺寸：430*315*855mm

30.整机体积：0.6方，重：77KG